清潔度檢測(cè)設(shè)備選擇原則
2019-03-12
[2003]
清潔度檢測(cè)設(shè)備選擇原則
清潔度設(shè)備選取一般分為兩個(gè)方面要求：
1、清洗設(shè)備
根據(jù)自己廠里所需清潔度檢測(cè)工件尺寸大小（長(zhǎng)*寬*高）來(lái)選取合適的清洗方式以及設(shè)備。
清洗方式一般常用的有三種：壓力清洗、超聲波清洗、灌流清洗
壓力清洗以及超聲波清洗目前市場(chǎng)上有簡(jiǎn)易式的，也有集成式的。兩種設(shè)備在功能上也有一定的差距。客戶需結(jié)合自己廠里生產(chǎn)工藝，加工精度要求選取合適的清洗設(shè)備。
2、顆粒物大小重量及數(shù)量分析要求
①客戶要求如果有顆粒物重量分析，那么客戶需要配置一臺(tái)萬(wàn)分之一的天平（也有的客戶選擇十萬(wàn)分之一）
②顆粒物數(shù)量大小分析
1）集成高景深體式顯微鏡，通常用于檢測(cè)25um以上的顆粒
2）集成奧林巴斯金相顯微鏡，可檢測(cè)5um以上的顆粒，客戶可以選配其他規(guī)格倍數(shù)的物鏡兼具可做金相材料分析和孔隙率分析。
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